Profile
MARUNOUCHI, Ko(丸野内 洸)
komarunouchi(at)eis.hokudai.ac.jpRoom: Research Institute for Electronic Science 3F 03-106
TEL: +81-11-706-9433 / FAX: +81-11-706-9432
keywords: Oxyfluoride thin films
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Biography
April 2023 – Present Master course student, Graduate School of Information Science and Technology, Hokkaido University
March 2023 Bachelor’s degree, School of Engineering, Hokkaido University (Supervisor: Prof. Tsukasa Katayama)
Original paper (1)
[1] Ko Marunouchi, Lizhikun Gong, Hiromichi Ohta, and Tsukasa Katayama*, “High-concentration doping effects of aliovalent Al and Ga on ferroelectric properties of BaTiO3 Films”, Thin Solid Films 796, 140339 (2024). (April 16, 2024) (DOI: 10.1016/j.tsf.2024.140339)
Presentations (5)
[1] 丸野内洸, 龔李治坤, 太田裕道, 片山司, “BaTiO3薄膜の強誘電特性へのGa及びAl置換効果”, 第58回応用物理学会北海道支部/第19回日本光学会北海道支部合同学術講演会, 室蘭工業大学(北海道札幌市), 2023.1.7-8.
[2] 丸野内洸,龔 李治坤,太田裕道,片山 司, “BaTiO3薄膜の強誘電特性へのGa及びAl置換効果”, 第70回 応用物理学会 春季学術講演会, 上智大学 四谷キャンパス+オンライン, 2023年3月15日-18日
[3] Ko Marunouchi, Lizhikun Gong, Hiromichi Ohta, and Tsukasa Katayama, “Al and Ga doping effects on ferroelectric and dielectric properties of BaTiO3 epitaxial films”, The Mini-Workshop on Functional Materials Science (Organizers’ meeting), Sapporo, Japan, December 1-2, 2023. (Poster)
[4] 丸野内 洸, 太田裕道, 片山 司, “反応性固相エピタキシャル成長法によるPb2MO3F薄膜(M = Fe, In)の合成”, 第59回 応用物理学会北海道支部 / 第20回 日本光学会北海道支部 合同学術講演会, 北海道大学, 札幌市, 2024.1.6 – 7.
[5] 丸野内 洸, 近松 彰, 太田裕道, 片山 司, “反応性固相エピタキシャル成長法によるPb2MO3F薄膜(M = Fe, In)の合成”, 2024年 第71回 応用物理学会春季学術講演会, 東京都市大学 世田谷キャンパス,東京, 2024年3月22日-25日.