日本語版
電子機器内の熱流を自在に制御できるメカニズムを発見　－次世代デバイスの性能向上と省エネ化に期待－

https://www.tohoku.ac.jp/japanese/2025/04/press20250414-03-thermal.html

https://www.hokudai.ac.jp/news/pdf/250414_pr2.pdf

タイトル：Controlling thermal conductivity of amorphous SiO_x films through structural engineering utilizing the single crystal substrate surfaces
著者：Katelyn A. Kirchner, Sohei Ogasawara, Melbert Jeem, Hiromichi Ohta, Akihiro Suzuki, Hiroo Tajiri, Tomoyuki Koganezawa, Loku Singgappulige Rosantha Kumara, Junji Nishii, John C. Mauro, Yasutaka Matsuo & Madoka Ono*
*責任著者：東北大学大学院工学研究科 応用物理学専攻　教授　小野 円佳
掲載誌：Nano Letters
DOI：10.1021/acs.nanolett.5c00646

※SiO₂薄膜の熱伝導率計測は当研究室で実施されました。